佳能推出纳米压印半导体制作设备 纳米压印未来或将追逐光刻技能

  纳米压印是将光刻胶(PR)涂在晶圆上，然后压上印有特定图画的印模以构成电路。由于它不运用镜头，所以能以比现有曝光工艺更低的本钱完成精密工艺。纳米压印代替的是光刻环节，只要光刻的过程被纳米压抑技能代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜堆积这些规范的芯片制作工艺是彻底兼容的，能很好的接入现有工业，不必推翻重来。根据相关资讯，佳能等世界厂商拟企图经过纳米压印技能在部分集成电路范畴代替EUV光刻设备完成更低本钱的芯片量产。佳能的NIL技能使图画的最小线nm，跟着掩模技能的进一步改进，NIL有望使电路图画化的最小线nm节点。市场分析指出，未来当光学光刻真实到达极限难以向前时，纳米压印技能或将是一条值得等待的道路，而那时，芯片制作或许也会迎来全新的范式，一切都会被推翻。

  美迪凯控股子公司在纳米压印制程范畴，具有自主知识产权及核心技能，公司选用灰度光刻、纳米压印及晶圆封装工艺成功开发了一种无基材晶圆级压印光学模组技能。

  晶方科技控股公司荷兰Anteryon早在2008年就开发了包含微透镜在内的晶圆级镜头工艺，公司控股子公司晶方光电在姑苏的纳米压印产线年开端也将此工艺使用在车用照明产品中。